book cover
Type Book
ชื่อเรื่องอิทธิพลของอัตราการไหลแก๊สไนโตรเจน และออกซิเจนที่มีต่อสมบัติทางกายภาพ และอิเล็กโตรโครมิคของฟิล์มทังสเตนออกไซด์ที่เคลือบโดยกระบวนการรีแอคทีฟ ดีซี แมกนีตรอนสปัตเตอริง = Effects of nitrogen and oxygen flow rates on physical and electrochromic properties of tungsten oxide films deposited by reactive DC magnetron sputtering
ผู้แต่งพศิน แย้มสงวนศักดิ์
พิมพลักษณ์2561
รูปเล่ม1 เล่ม
ลิงค์Full Text
 Abstract
 Full Text
หัวเรื่องElectrochromic devices
 Tungsten oxides
 Sputtering (Physics)
 การชุบเคลือบด้วยไฟฟ้า
 ฟิล์มบางเหล็กทังสเตน
 วิทยานิพนธ์

1
 มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี

126 ถนนประชาอุทิศ แขวงบางมด เขตทุ่งครุ กรุงเทพฯ 10140

Loading items...


© 2013-2019 UCTAL. All Rights Reserved.
สนับสนุนโดย สำนักงานบริหารเทคโนโลยีสารสนเทศเพื่อพัฒนาการศึกษา กระทรวงการอุดมศึกษา วิทยาศาสตร์ วิจัยและนวัตกรรม ThaiLIS | Power by สำนักงานบริหารเทคโนโลยีสารสนเทศเพื่อพัฒนาการศึกษา